特許
J-GLOBAL ID：200903014696854811
欠陥検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-304173
公開番号（公開出願番号）：特開2000-131239
出願日： 1998年10月26日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：
【要約】【課題】小型な装置で、微細なパターンピッチを有する被検基板の表面欠陥を高精度に検出できる欠陥検査装置を提供すること。【解決手段】 光束を供給する光源ユニット1と、前記光源ユニットからの光束を被検基板3へ導く光学ユニット2と、前記被検基板からの回折光を受光する受光ユニット5と、前記受光ユニットからの出力に基づいて前記被検基板の表面状態を検出する処理ユニット6とを有し、前記光学ユニットは、前記被検基板からの回折光を前記受光ユニットへ導くことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
光束を供給する光源ユニットと、前記光源ユニットからの光束を被検基板へ導く光学ユニットと、前記被検基板からの回折光を受光する受光ユニットと、前記受光ユニットからの出力に基づいて前記被検基板の表面状態を検出する処理ユニットとを有し、前記光学ユニットは、前記被検基板からの回折光を前記受光ユニットへ導くことを特徴とする欠陥検査装置。
Fターム (16件)：
2G051AA51
, 2G051AA61
, 2G051AB07
, 2G051AC21
, 2G051BA10
, 2G051BB01
, 2G051BB15
, 2G051CA03
, 2G051CA06
, 2G051CB06
, 2G051CC11
, 2G051DA08
, 2G051EA08
, 2G051EA12
, 2G051EA14
, 2G051EB01
