特許
J-GLOBAL ID:200903014716511541
クリーニング構成を有する光学システム
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
伊東 忠彦
, 大貫 進介
, 伊東 忠重
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-522099
公開番号(公開出願番号):特表2008-507840
出願日: 2005年07月18日
公開日(公表日): 2008年03月13日
要約:
光学システムのための、特に、EUV放射のためにデザインされた光学システムのためのクリーニング構成について開示している。クリーニング構成は反応ガス(29)のガス入口(28)を有する。光学要素(110)の表面に堆積した汚染物質(23)は反応ガスにより分離される。クリーニングされるべき表面の反対側に好適に配置されたゲッタ表面(32)がまた、備えられ、それにより、それらの表面から分離された汚染物質が吸着される。この吸着は、ゲッタ表面における凝縮の結果として及び化学反応により起こる。
請求項(抜粋):
光学システムであって、特に、光学要素により規定されるビーム経路を有し、反応ガス入口と前記ビーム経路から離れて備えられている少なくとも1つのゲッタ表面とを有するクリーニング構成を有するEUV放射のためのものであることを特徴とする光学システム。
IPC (1件):
FI (2件):
H01L21/30 503G
, H01L21/30 531A
Fターム (4件):
5F046DA04
, 5F046DA30
, 5F046GA14
, 5F046GA20
引用特許:
出願人引用 (2件)
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欧州特許第1213617号明細書
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米国特許出願公開第2004/0007246号明細書
審査官引用 (4件)