特許

J-GLOBAL ID：200903014722078574

金属酸化物膜蒸着装置

発明者： 斉藤 秀俊 ,  木下 秀雄
出願人/特許権者： 旭化成工業株式会社 ,  斎藤 秀俊
代理人 (1件)： 清水 猛 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-218647
公開番号（公開出願番号）：特開2000-038671
出願日： 1998年07月17日
公開日（公表日）： 2000年02月08日
要約：

【要約】【課題】 基材表面に金属酸化物膜を蒸着せしめる装置を提供する。【解決手段】 大気放出後に反応して酸化物を形成する一種あるいは複数の金属化合物を加熱して、必要に応じて媒体ガス存在下で揮発ガス体となし、該揮発ガス体をノズルから噴射して、金属酸化物膜を基材表面に蒸着形成せしめる大気開放型CVD装置、及び、大気放出後に水と反応して酸化物を形成する一種あるいは複数の金属化合物を加熱して、必要に応じて媒体ガス存在下揮発ガス体となし、該揮発ガス体を湿度コントロールしつつノズルから噴射して、金属酸化物膜を基材表面に蒸着形成せしめる大気開放型CVD装置。

請求項（抜粋）：

大気放出後に反応して酸化物を形成する一種あるいは複数の金属化合物を加熱し、揮発ガス体となし、該揮発ガス体をノズルから噴射して、金属酸化物膜を基材表面に蒸着形成せしめることを特徴とする大気開放型CVD装置。

IPC (4件)：

C23C 16/40 ,  C03C 17/245 ,  C23C 16/448 ,  C23C 16/455

FI (4件)：

C23C 16/40 ,  C03C 17/245 Z ,  C23C 16/44 C ,  C23C 16/44 D

Fターム (46件)：

4G059AA01 ,  4G059AB19 ,  4G059AC11 ,  4G059AC18 ,  4G059AC22 ,  4G059AC30 ,  4G059CB01 ,  4G059EA01 ,  4G059EA02 ,  4G059EA03 ,  4G059EA04 ,  4G059EA05 ,  4G059EA07 ,  4G059EB01 ,  4K030AA02 ,  4K030AA11 ,  4K030BA02 ,  4K030BA11 ,  4K030BA16 ,  4K030BA18 ,  4K030BA21 ,  4K030BA29 ,  4K030BA42 ,  4K030BA43 ,  4K030BA44 ,  4K030BA46 ,  4K030BA47 ,  4K030BA53 ,  4K030BA54 ,  4K030BA55 ,  4K030BA57 ,  4K030BB02 ,  4K030CA01 ,  4K030CA02 ,  4K030CA05 ,  4K030CA06 ,  4K030CA07 ,  4K030EA01 ,  4K030EA04 ,  4K030EA05 ,  4K030FA10 ,  4K030FA17 ,  4K030JA06 ,  4K030JA09 ,  4K030KA25 ,  4K030KA41

引用特許：

審査官引用 (5件)

• フッ化物ガラス用CVD原料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-099638   出願人：三菱電機株式会社
• 特開昭56-041832
  
• 特開昭57-104659
  
• 特開昭59-150533
  
• 特開昭63-242947
  

引用文献：

審査官引用 (1件)

• CVDハンドブック, 1991, 第628-647頁