特許
J-GLOBAL ID：200903014725024068
フォトマスクおよびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-307869
公開番号（公開出願番号）：特開平7-159975
出願日： 1993年12月08日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【目的】 製造および修正が容易にできるフォトマスクおよびその製造技術を提供する。【構成】 ガラス基板1の表面に設けられているマスクパターン2と、前記ガラス基板1の基板表面に設けられている前記ガラス基板1よりも光透過率が小さい材料からなるSOG膜3とを備え、前記SOG膜3の膜厚を調整することにより、前記SOG膜3の光透過量を調整し、それによって前記SOG膜3が所望のパターン寸法に形成されていない領域に接触して形成されている前記SOG膜3における膜厚を調整することにより、前記フォトマスクの修正を容易にすると共に、所望の高精度のフォトマスクを得る。
請求項（抜粋）：
フォトマスク基板と、前記フォトマスク基板の表面に設けられているマスクパターンと、前記フォトマスク基板の表面に設けられている前記フォトマスク基板よりも光透過率が小さい材料からなる薄膜パターンとを有することを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
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