高圧処理装置及び方法

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：小笠原史朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-148194
公開番号（公開出願番号）：特開2002-336675
出願日： 2001年05月17日
公開日（公表日）： 2002年11月26日
要約：

【要約】【課題】基板設置時に処理槽内に混入した大気成分を流体生成/回収系に流入させずに、純粋な処理流体を用いて基板処理を行うことが可能な高圧処理装置及び方法を提供する。【解決手段】基板の設置のため基板洗浄槽5の扉が開けられると、バルブV1,V2,V3,V4及びV6が閉栓され、バルブV5のみが開栓される。これにより、気体の二酸化炭素が基板洗浄槽5へ供給され、大気成分の混入を防止する槽内パージが行われる。次に、基板洗浄槽5の扉が閉められると同時に、さらにバルブV6が閉栓されて基板洗浄槽5のベントラインが形成される。これにより、基板洗浄槽5及び配管内にある気体を二酸化炭素ガスで大気中へ押し出し、万一混入した大気成分が残留しないように槽内パージが行われる。その後、超臨界二酸化炭素によって基板洗浄が行われる。

請求項（抜粋）：

高圧流体を用いて基板に所定の処理を施す高圧処理装置であって、所定の処理流体を高圧状態にして供給する高圧流体供給部と、前記高圧流体供給部から供給された高圧流体を、処理槽内に設置された基板と接触させて処理する基板処理部と、前記基板処理部での基板処理後の前記高圧流体を回収して再利用させる高圧流体回収部と、前記高圧流体と同一成分の雰囲気置換流体を、前記処理槽内へ供給する供給処理部と、前記処理槽内の気体を排出する排出処理部とを備え、前記処理槽内に基板が設置され密閉されてから前記高圧流体が供給されるまで、前記供給処理部が前記雰囲気置換流体を前記処理槽内へ供給すると共に、前記排出処理部が当該雰囲気置換流体の供給によって押し出される前記処理槽内の気体を排出することを特徴とする、高圧処理装置。

IPC (7件)：

B01J 3/00 , B01J 3/02 , B08B 5/00 , B08B 7/00 , G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500 , H01L 21/304 641

FI (7件)：

B01J 3/00 A , B01J 3/02 A , B08B 5/00 A , B08B 7/00 , G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500 , H01L 21/304 641

Fターム (11件)：

2H088FA21 , 2H088HA01 , 2H090JC19 , 3B116AA01 , 3B116AB02 , 3B116BB02 , 3B116BB72 , 3B116BB88 , 3B116BB90 , 3B116CD11 , 3B116CD22

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