特許
J-GLOBAL ID:200903014768184204

ドライエッチング装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 京本 直樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-164349
公開番号(公開出願番号):特開平9-017773
出願日: 1995年06月29日
公開日(公表日): 1997年01月17日
要約:
【要約】【目的】 ドライエッチング装置において、ウェハ8の温度上昇をもたらす冷却用ガス漏れを事前に検知しエッチングパターン不良を発生させない。【構成】ウェハ8の裏面に供給されウェハと接触する冷却用ガスの圧力を検知する圧力計1を設け、ウェハ8から冷却用ガスが漏れることによる降下する圧力値を設定し、エッチングを開始前に冷却ガスの圧力値と降下圧力値と比較しガス漏れの有無を確実に判定する。
請求項(抜粋):
処理ガスを導入し減圧されたチャンバ内に収納される半導体ウェハを保持するステージと、このステージの下方から一定流量のガスを供給し前記半導体ウェハの裏面に接触させ該半導体ウェハを冷却する冷却機構とを備えるドライエッチング装置において、供給により前記ガスの昇圧を測定する圧力計と、この圧力計によって測定される圧力値が規定値より低くなったときエッチング動作開始を中止させるインターロック手段とを備えることを特徴とするドライエッチング装置。
IPC (2件):
H01L 21/3065 ,  C23F 4/00
FI (2件):
H01L 21/302 B ,  C23F 4/00 A
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 静電チャック
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-354709   出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
  • 特開平4-150937
  • 特開昭61-036931

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