特許

J-GLOBAL ID：200903014770376307

排ガスモニタを備えたプラズマ装置およびその動作方法

発明者： 今井 伸一
出願人/特許権者： 松下電子工業株式会社
代理人 (1件)： 前田 弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-198474
公開番号（公開出願番号）：特開2001-023969
出願日： 1999年07月13日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：

【要約】【課題】 エッチングや薄膜堆積を行うプラズマ装置の排気ガスからパーフルオロコンパウンド(PFC)ガスの除去を確実に行う。【解決手段】 電子親和力を有する分子を含むガスのプラズマを用いて化学的処理を行うプラズマ装置であって、処理を行うための反応室1と、反応室1中のガスを排気するポンプ5と、反応室1から排気されるガスを分解又は吸着する除害装置6と、除害装置6から排気されるガスの一部を採取し、排気ガスに含まれるPFCの量を測定する質量分析装置8と、質量分析装置8の測定結果に基づいて除害装置6の動作を制御する制御部とを備えている。

請求項（抜粋）：

プラズマを用いて化学的処理を行うプラズマ装置であって、前記処理を行うための反応室と、前記反応室中のガスを排気するポンプと、前記反応室から排気されるガスを分解又は吸着する除害部と、前記除害部から排気されるガスの一部を採取し、前記排気ガス中の電子親和力を有する分子からなる特定ガスの量を測定する質量分析部と、前記質量分析部の測定結果に基づいて、前記除害部の動作を制御する制御部とを備えているプラズマ装置。

IPC (8件)：

H01L 21/3065 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/68 ,  B01J 19/08 ,  G01N 27/62 ZAB ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/00 ,  H05H 1/46

FI (8件)：

H01L 21/302 B ,  B01J 19/08 E ,  G01N 27/62 ZAB V ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/00 A ,  H05H 1/46 L ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 134 C

Fターム (50件)：

4D002AA22 ,  4D002AC10 ,  4D002BA04 ,  4D002BA07 ,  4D002BA12 ,  4D002BA13 ,  4D002BA20 ,  4D002CA01 ,  4D002CA20 ,  4D002EA02 ,  4D002GA02 ,  4D002GA04 ,  4D002GB01 ,  4D002GB02 ,  4D002GB03 ,  4D002GB04 ,  4D002GB20 ,  4D002HA10 ,  4G075AA22 ,  4G075AA24 ,  4G075AA61 ,  4G075BC06 ,  4G075CA47 ,  4G075DA01 ,  4G075EB01 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BC02 ,  5F004BC08 ,  5F004CA09 ,  5F004CB04 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA02 ,  5F004DA03 ,  5F004DA04 ,  5F004DA18 ,  5F004DA26 ,  5F045AA08 ,  5F045AC02 ,  5F045AC11 ,  5F045BB14 ,  5F045BB20 ,  5F045EC07 ,  5F045EG01 ,  5F045EG08 ,  5F045EH11 ,  5F045GB04 ,  5F045GB17