特許
J-GLOBAL ID:200903014780350268
アミノフェノール類の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
柳原 成
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-092516
公開番号(公開出願番号):特開2000-290238
出願日: 1999年03月31日
公開日(公表日): 2000年10月17日
要約:
【要約】【課題】アミノフェノール類の製造に一般的に求められている工程上の要請を満たしつつ、微粒子含有量の少ない高純度のアミノフェノール類を製品として取得し得る方法を提供すること。【解決手段】二価フェノール類とアミノ化試剤とを反応1させ、反応終了後の反応混合物2から粗アミノフェノール類を1次晶析により分離し、粗アミノフェノール類9を2次晶析17により精製して高純度アミノフェノール類を製品として取得することからなるアミノフェノール類の製造法であって、粗アミノフェノール類の2次晶析17を、反応副生成物であるフェニレンジアミン類の濃度をアミノフェノール類に対して2.5重量%以下の状態で行うことを特徴とするアミノフェノール類の製造方法が提供される。
請求項(抜粋):
二価フェノール類とアミノ化試剤との反応混合物から1次晶析により分離した粗アミノフェノール類を、2次晶析により精製して高純度のアミノフェノール類を製品として取得するアミノフェノール類の製造方法であって、反応副生成物であるフェニレンジアミン類の濃度がアミノフェノール類に対して2.5重量%以下の状態で粗アミノフェノール類の2次晶析を行うことを特徴とするアミノフェノール類の製造方法。
IPC (3件):
C07C213/02
, C07C213/10
, C07C215/76
FI (3件):
C07C213/02
, C07C213/10
, C07C215/76
Fターム (21件):
4H006AA02
, 4H006AC52
, 4H006AD15
, 4H006BA05
, 4H006BA12
, 4H006BA13
, 4H006BA14
, 4H006BA19
, 4H006BA21
, 4H006BA34
, 4H006BA36
, 4H006BB14
, 4H006BB31
, 4H006BB61
, 4H006BC10
, 4H006BC31
, 4H006BC35
, 4H006BE14
, 4H006BE90
, 4H006BN30
, 4H006BU46
前のページに戻る