特許

J-GLOBAL ID：200903014781776587

真空処理装置

発明者： 高橋 信行
出願人/特許権者： アネルバ株式会社
代理人 (1件)： 大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-355810
公開番号（公開出願番号）：特開2002-158273
出願日： 2000年11月22日
公開日（公表日）： 2002年05月31日
要約：

【要約】【課題】 基板に対して加熱処理および冷却処理を行うことができ、スループットの向上が可能で、しかも装置の小型化が可能な真空処理装置。【解決手段】 内部に基板を一枚収納し、加熱手段または冷却手段を具えたロードロック室18(18aおよび18b)を複数配置してある。

請求項（抜粋）：

大気雰囲気と真空雰囲気との間で基板の搬入出を行うロードロック室と、内部で前記基板に対して所定の処理がなされる処理室と、前記ロードロック室と前記処理室との間で前記基板を搬送する搬送系を備えた搬送室とを具える真空処理装置において、前記ロードロック室は、前記搬送室の周囲に複数配置されており、内部に基板を一枚収納し、加熱手段または冷却手段を具えていることを特徴とする真空処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/68 ,  B01J 3/00 ,  C23C 14/56 ,  C23C 16/54 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (6件)：

H01L 21/68 A ,  B01J 3/00 M ,  C23C 14/56 G ,  C23C 16/54 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B

Fターム (38件)：

4K029AA09 ,  4K029DA01 ,  4K029DA08 ,  4K029KA09 ,  4K030CA06 ,  4K030GA12 ,  4K030KA08 ,  4K030KA22 ,  5F004AA16 ,  5F004BB25 ,  5F004BB26 ,  5F004BC05 ,  5F004BC06 ,  5F004BD04 ,  5F004BD05 ,  5F004CA04 ,  5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA15 ,  5F031GA37 ,  5F031MA02 ,  5F031MA04 ,  5F031MA06 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031MA32 ,  5F031NA09 ,  5F045AA01 ,  5F045AA03 ,  5F045AA06 ,  5F045AA19 ,  5F045AF07 ,  5F045DP02 ,  5F045EB02 ,  5F045EB08 ,  5F045EJ02 ,  5F045EK06