特許
J-GLOBAL ID:200903014786467604

反射防止膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石井 紀男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-052904
公開番号(公開出願番号):特開平6-242302
出願日: 1993年02月18日
公開日(公表日): 1994年09月02日
要約:
【要約】【目的】 反射防止膜の製造方法において、耐久性及び耐熱性等の信頼性に優れた反射防止膜を得ること。【構成】 光学媒体1の表面に、Ti O2 膜を一層以上含む反射防止膜を形成した光学部品において、Ti O2 膜2又は3の屈折率が波長850nmより長い光に対して2.4以上とした。
請求項(抜粋):
光学媒体の表面に、Ti O2 膜を一層以上含む反射防止膜を形成した光学部品において、Ti O2 膜の屈折率が波長850nmより長い光に対して2.4以上であることを特徴とする反射防止膜の製造方法。
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 導電性反射防止膜
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-215422   出願人:富士写真光機株式会社
  • 導電性反射防止膜
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-215423   出願人:富士写真光機株式会社
  • 特開平2-171701
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