特許

J-GLOBAL ID：200903014792650798

光学活性アセタールの製造方法

発明者： 向 山 光 昭 ,  高 井 敏 浩 ,  永 田 卓 司 ,  山 田 徹
出願人/特許権者： 三井石油化学工業株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 望稔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-040853
公開番号（公開出願番号）：特開平7-247280
出願日： 1994年03月11日
公開日（公表日）： 1995年09月26日
要約：

【要約】【目的】染料、医薬、農薬等の合成中間体として有用な光学活性アセタールの製造方法の提供。【構成】光学活性エポキシドと、ケトンとを、HSAB原理により硬い酸に分類されるルイス酸から選ばれる少なくとも1種の存在下に反応させる工程を有する、光学活性アセタールの製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式(a):【化1】〔式中、R1 〜R4 は、水素原子、直鎖もしくは分岐状のアルキル基またはアリール基であり、置換基を有していてもよく、*を付した炭素原子の少なくとも1つが不斉炭素原子である〕で表される光学活性エポキシドと、下記一般式(b):【化2】〔式中、2つのR5 は、直鎖または分岐状のアルキル基であり、相互に結合して環を形成していてもよい〕で表されるケトンとを、HSAB原理により硬い酸に分類されるルイス酸から選ばれる少なくとも1種の存在下に反応させる工程を有する、一般式(c):【化3】〔式中、R1 〜R5 は、前記一般式(a)および(b)で定義したとおりであり、*を付した炭素原子の少なくとも1つが不斉炭素原子である〕で表される光学活性アセタールの製造方法。

IPC (6件)：

C07D317/12 ,  B01J 27/08 ,  C07B 53/00 ,  C07D317/72 ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 7:00