特許

J-GLOBAL ID：200903014813066692

排ガス処理装置

発明者： 伊東 正義
出願人/特許権者： 古河機械金属株式会社
代理人 (1件)： 森 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-234940
公開番号（公開出願番号）：特開平7-088324
出願日： 1993年09月21日
公開日（公表日）： 1995年04月04日
要約：

【要約】【目的】 排ガス中の媒塵と、酸性物質、窒素酸化物、重金属、ダイオキシン等の有害物質を同時に除去する。【構成】 ごみ焼却炉1の排ガス経路中30に集塵器4を設け、集塵器4の入口側に浄化剤を吹き込んで、媒塵と共に排ガス中の酸性物質、窒素酸化物、重金属、ダイオキシン等の有害物質を除去する排ガス処理装置において、消石灰槽9、表面活性物質槽10、脱硝触媒槽11、及び消石灰と表面活性物質と脱硝触媒とを混合する混合装置15を備えると共に、集塵器4の入口側に、混合装置15で混合された混合浄化剤を噴霧して流動化し排ガス中の有害物質を反応吸着させるベンチュリ式反応器3を設ける。

請求項（抜粋）：

工業プロセスやごみ焼却炉等の排ガス経路中に集塵器を設け、該集塵器の入口側に浄化剤を吹き込んで、媒塵と共に排ガス中の酸性物質、窒素酸化物、重金属、ダイオキシン等の有害物質を除去する排ガス処理装置において、微粉状の消石灰と表面活性物質と脱硝触媒とをそれぞれ貯蔵する消石灰槽、表面活性物質槽、脱硝触媒槽、及び該消石灰槽、表面活性物質槽、脱硝触媒槽から供給される消石灰と表面活性物質と脱硝触媒とを混合する混合装置を備えると共に、集塵器の入口側に、混合装置で混合された混合浄化剤を噴霧して流動化し排ガス中の有害物質を反応吸着させるベンチュリ式反応器を設けたことを特徴とする排ガス処理装置。

IPC (7件)：

B01D 53/40 ,  B01D 53/77 ,  B01D 53/18 ,  B01D 53/70 ,  B01D 53/64 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/94

FI (5件)：

B01D 53/34 118 C ,  B01D 53/34 134 F ,  B01D 53/34 136 Z ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/36 101 A

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特表平1-503232