特許

J-GLOBAL ID：200903014831297561

基板処理装置

発明者： 濱野 辰美
出願人/特許権者： 住友精密工業株式会社
代理人 (1件)： 生形 元重 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-320744
公開番号（公開出願番号）：特開2003-124183
出願日： 2001年10月18日
公開日（公表日）： 2003年04月25日
要約：

【要約】【課題】 薬液処理部の上流側に配置される液避け部で問題になる薬液の結晶化を防止する。【解決手段】 液避け部30の槽底部に純水を供給し、所定レベルで滞留させる。槽底部内に滞留する純水34を順次オーバーフローさせて外部へ排出する。薬液処理部から上流側の液避け部30に侵入したエッチング液等の薬液が、液避け部30の槽底部分に滞留する水により希釈され、薬液が結晶化しやすい場合も液避け部30における結晶化が防止される。

請求項（抜粋）：

基板を水平方向へ搬送して複数の処理部に通過させ、複数の処理部の少なくとも1つで薬液処理を行うと共に、薬液処理部に隣接して液避け部を設けた水平搬送式の基板処理装置において、前記液避け部を、槽底部分に水が滞留する貯水構造としたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/306 ,  B05C 5/00 102 ,  B05C 13/02

FI (3件)：

B05C 5/00 102 ,  B05C 13/02 ,  H01L 21/306 R

Fターム (15件)：

4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AB02 ,  4F041BA07 ,  4F041BA13 ,  4F041BA31 ,  4F042AA02 ,  4F042AA10 ,  4F042DF19 ,  4F042DF21 ,  5F043AA31 ,  5F043BB22 ,  5F043EE02 ,  5F043EE07 ,  5F043EE36