特許

J-GLOBAL ID：200903014834525948

シャドウマスクの製造方法

発明者： 上村 敏文 ,  城ノ下 幸慶
出願人/特許権者： 東洋インキ製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-316049
公開番号（公開出願番号）：特開平6-150814
出願日： 1992年10月30日
公開日（公表日）： 1994年05月31日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 シャドウマスク素材の2次エッチングに先立ち、エッチング抵抗性水性型材料を塗布する場合に、塗膜の気泡および破れの発生を低減し、高品位なシャドウマスクを製造する方法を提供する。【構成】 シャドウマスク素材の片面に浅い凹状の大孔部4、もう一方に浅い凹状の小孔部3を形成したのち、シャドウマスク素材を40〜80°Cに保ちながら、小孔部形成面に、エッチング液に抵抗性を有する水性材料5を塗布する工程を具備する。【効果】 塗膜欠陥を減少させシャドウマスクの孔径異常を改善できる。

請求項（抜粋）：

シャドウマスク素材の片面に浅い凹状の大孔部、もう一方に浅い凹状の小孔部を形成したのち、シャドウマスク素材を40〜80°Cに保ちながら、小孔部形成面に、エッチング液に抵抗性を有する水性材料を塗布する工程を少なくとも具備することを特徴とするシャドウマスクの製造方法。