特許
J-GLOBAL ID:200903014845889011

膜処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 森本 義弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-103743
公開番号(公開出願番号):特開平10-290982
出願日: 1997年04月22日
公開日(公表日): 1998年11月04日
要約:
【要約】【課題】 膜の汚れに応じた適当量の空気で膜面をスクラビング洗浄できる膜処理装置を提供する。【解決手段】 処理槽1内に設置されて槽内の被処理水3をろ過する膜モジュール4と、複数台のブロワ9に連通して槽内に設けられ、膜モジュール4の膜面をスクラビング洗浄する空気を散気する散気装置10とを備えた膜処理装置において、膜モジュール4の膜差圧に基づきブロワ9の運転台数を制御する制御装置15を設ける。
請求項(抜粋):
処理槽内に設置されて槽内の被処理水をろ過する膜モジュールと、複数台のブロワに連通して槽内に設けられ、前記膜モジュールの膜面をスクラビング洗浄する空気を散気する散気装置とを備えた膜処理装置において、前記膜モジュールの膜差圧に基づきブロワの運転台数を制御する制御手段を設けたことを特徴とする膜処理装置。
IPC (2件):
C02F 1/44 ,  B01D 65/02 520
FI (2件):
C02F 1/44 H ,  B01D 65/02 520

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