特許
J-GLOBAL ID：200903014859136385
真空処理装置およびその方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-100942
公開番号（公開出願番号）：特開平5-299381
出願日： 1992年04月21日
公開日（公表日）： 1993年11月12日
要約：
【要約】【目的】 電極の傾きを解消して電極の昇降動作を確実に行わせると共に、安定したエッチングおよびアッシング性能を行い得て、信頼性の高める。【構成】 1は真空チャンバーで、ケーシング2の隔壁部2aにより大気と隔絶されて真空容器として機能する。電極3は上端面にシリコンウェハー4が載置され、下端部が昇降プレート6に取付けられて真空チャンバー1内を昇降自在とされている。ベースプレート11には支柱10により真空チャンバー1が固定され、立設したガイドレール7bに昇降プレート6が昇降自在に案内される。ベースプレート11と昇降プレート6とには、ボールねじ9bが回転自在に支持されボールねじ9bに螺合するボールナット9aが昇降プレート6に固定されている。ボールねじ9bはモータ12を駆動源として回転駆動され、これにより電極3が昇降する。そして、ボールねじ9bは一対設けられている。
請求項（抜粋）：
真空容器内に昇降自在な電極を配設しこの真空容器内に反応ガスを供給しプラズマを発生させ前記電極に載置したシリコンウェハー基板等に所望のプロセス処理を施す真空処理装置において、前記電極を取付けた昇降プレートと、前記真空容器を固定するベースプレートとを備え、このベースプレートと前記昇降プレートとの間に前記真空容器の大気と真空とを仕切る隔壁部に対して直行する一対のボールねじを介在させると共に、このボールねじを回転駆動させる駆動手段を備えたことを特徴とする真空処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/302
, C23F 4/00
, H01L 21/027
