特許
J-GLOBAL ID：200903014884749383

酸化チタンを含む細線の製造方法、該製造方法により製造された細線および構造体

発明者：
岩崎 達哉

岩崎 達哉 について

, 
田 透

田 透 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 渡辺 徳廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-310601
公開番号（公開出願番号）：特開2000-203998
出願日： 1999年11月01日
公開日（公表日）： 2000年07月25日
要約：
【要約】【課題】 結晶性に優れ、ナノサイズの径を有する酸化チタンを含む細線、特には酸化チタンウィスカーの製造方法を提供する。【解決手段】 チタンを含む表面11を有する基体10を用意する第一の工程(a)と、前記表面にチタンとは異なる材料13を離散的に配置する第二の工程(b)と、チタンを酸化する雰囲気中で、前記第二の工程を施した前記チタンを含む表面を熱処理して酸化チタンを含む細線15を形成する第三の工程(c)を有する酸化チタンを含む細線の製造方法。
請求項（抜粋）：
(A)チタンを含む表面を有する基体を用意する第一の工程、(B)前記表面に、チタンとは異なる材料を離散的に配置する第二の工程、(C)チタンを酸化する雰囲気中で、前記第二の工程を施した前記チタンを含む表面を熱処理して酸化チタンを含む細線を形成する第三の工程を有することを特徴とする酸化チタンを含む細線の製造方法。
IPC (2件)：
C30B 29/62 ,  H01L 31/04
FI (2件)：
C30B 29/62 C ,  H01L 31/04 M
引用特許：
出願人引用 (7件)
  • 特公昭39-003409
  • 酸化銅ウイスカーの製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-246452   出願人：株式会社インターナシヨナルソフトウエア
  • 特開平4-182399
全件表示
審査官引用 (13件)
  • 特公昭39-003409
  • 酸化銅ウイスカーの製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-246452   出願人：株式会社インターナシヨナルソフトウエア
  • 特公昭39-003409
全件表示
引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM