特許

J-GLOBAL ID：200903014888423075

シクロヘキサノールの製造方法

発明者： 手塚 真 ,  渡辺 孝二 ,  江崎 達哉
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-079199
公開番号（公開出願番号）：特開平10-251177
出願日： 1997年03月14日
公開日（公表日）： 1998年09月22日
要約：

【要約】【課題】 シクロヘキセンをゼオライト触媒の存在下、連続的に接触水和してシクロヘキサノールを製造する方法において、触媒の活性低下を防止し、長時間連続反応の実施を可能にする。【解決手段】 ゼオライト触媒の存在下、液相でシクロヘキセンを連続的に接触水和反応させることによるシクロヘキサノールの製造方法において、ゼオライト触媒は、その一次粒子の径が0.5ミクロン以下であり、且つ一次粒子の凝集により形成される二次粒子の径が50ミクロン以下であるゼオライト触媒であること及び水和反応系中に、N-置換型アミド化合物を、原料シクロヘキセンに対して0.001ppm-0.5ppm共存させることよりなるシクロヘキサノールの製造方法。

請求項（抜粋）：

ゼオライト触媒の存在下、液相でシクロヘキセンを連続的に接触水和反応させることによるシクロヘキサノールの製造方法において、ゼオライト触媒は、その一次粒子の径が0.5ミクロン以下であり、且つ一次粒子の凝集により形成される二次粒子の径が50ミクロン以下であるゼオライト触媒であること及び水和反応系中に、N-置換型アミド化合物を、原料シクロヘキセンに対して0.001ppm-0.5ppm共存させることを特徴とするシクロヘキサノールの製造方法。

IPC (5件)：

C07C 35/08 ,  B01J 29/06 ,  B01J 31/26 ,  C07C 29/04 ,  C07B 61/00 300

FI (5件)：

C07C 35/08 ,  B01J 29/06 X ,  B01J 31/26 X ,  C07C 29/04 ,  C07B 61/00 300