特許

J-GLOBAL ID：200903014900494552

3次元形状モデルへの電子透かし埋込み方法並びに電子透かし復元方法

発明者： 長橋 宏 ,  三橋 力麻
出願人/特許権者： 財団法人 理工学振興会
代理人 (1件)： 安形 雄三 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-289141
公開番号（公開出願番号）：特開2003-099805
出願日： 2001年09月21日
公開日（公表日）： 2003年04月04日
要約：

【要約】【課題】 3次元形状モデルに、埋込みの前後で3次元形状モデルの形状が大略保存され、又、攻撃・侵害を受けた場合でも、埋込んだ電子透かし情報が失われたり、復元不可能とならない、攻撃に対して頑強な耐性のある電子透かし情報の埋込み/復元方法を提供する。【解決手段】 透かし情報の埋込み用パラメータを設定する工程と、3次元形状モデルの変換前データを入力する工程と、入力した3次元形状モデルの各曲面メッシュに対して、透かし情報の埋込み処理を行うメッシュと、埋込み処理を行わないメッシュとを選別する工程と、選別された各曲面メッシュの集合の中の所定のメッシュに対して、埋込み用パラメータに指定された分割比率を有する制御点を新しく生成し、当該制御点が、所定の曲面上にあり、かつ、前記所定の曲面メッシュと同数の制御点を有する分割メッシュを生成することにより、上記課題は解決される。

請求項（抜粋）：

多項式又は有理式で表現された3次元形状モデルへの電子透かし情報の埋込み方法であって、前記透かし情報の埋込み用パラメータを設定する工程と、3次元形状モデルの変換前データを入力する工程と、前記入力した3次元形状モデルの各曲面メッシュに対して、透かし情報の埋込み処理を行うメッシュと、埋込み処理を行わないメッシュとを選別する工程と、前記選別された各曲面メッシュの集合の中の所定のメッシュに対して、前記埋込み用パラメータに指定された分割比率を有する制御点を新しく生成し、当該制御点が、前記所定の曲面上にあり、かつ、前記所定の曲面メッシュと同数の制御点を有する分割メッシュを生成することにより、前記電子透かし情報の埋込みを実行する工程と、を含むことを特徴とする3次元形状モデルへの電子透かし情報の埋込み方法。

IPC (5件)：

G06T 17/40 ,  G06F 17/50 622 ,  G06T 1/00 500 ,  G06T 17/30 ,  H04N 1/387

FI (5件)：

G06T 17/40 A ,  G06F 17/50 622 Z ,  G06T 1/00 500 B ,  G06T 17/30 ,  H04N 1/387

Fターム (26件)：

5B046FA12 ,  5B050AA03 ,  5B050BA07 ,  5B050BA09 ,  5B050BA18 ,  5B050DA10 ,  5B050EA13 ,  5B050EA19 ,  5B050EA28 ,  5B050GA07 ,  5B057BA01 ,  5B057CA13 ,  5B057CA17 ,  5B057CB13 ,  5B057CB17 ,  5B057CB19 ,  5B057CE08 ,  5B057CG07 ,  5B057CH08 ,  5B080AA06 ,  5B080AA07 ,  5B080AA18 ,  5B080FA08 ,  5C076AA14 ,  5C076AA40 ,  5C076BA06