特許
J-GLOBAL ID：200903014903663983
欠陥修正方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-244790
公開番号（公開出願番号）：特開平10-090876
出願日： 1996年09月17日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：
【要約】【課題】 凸状欠陥と平坦化膜とを容易に除去してエッチング後の表面平坦性を許容精度内に抑えるとともに、残留した平坦化膜を容易に除去し得る、位相シフトマスクの欠陥修正方法を提供する【解決手段】 表面に凸欠陥を有する位相シフトマスクの凸欠陥を囲むように、或いは前記欠陥に近接するように、前記基板上に集束イオンビームを用いて第1のシリコン酸化膜を堆積する工程と、前記欠陥及び第1のシリコン酸化膜の上に、集束イオンビームを用いて第2のシリコン酸化膜を平坦に堆積する工程と、前記欠陥とその上部及び周辺のシリコン酸化膜とをXeF2 を用いたFIBアシストエッチイングにより同時に除去して凸欠陥を平坦化する工程と、この除去工程で残った第1及び第2のシリコン酸化膜を除去する工程とを具備する位相シフトマスクの欠陥修正方法である。
請求項（抜粋）：
表面に凸欠陥を有する位相シフトマスクの凸欠陥を囲むように、あるいは前記欠陥に近接するように、前記基板上に集束イオンビームを用いて第1のシリコン酸化膜を堆積する工程と、前記欠陥および第1のシリコン酸化膜の上に、集束イオンビームを用いて第2のシリコン酸化膜を平坦に堆積する工程と、前記欠陥とその上部および周辺のシリコン酸化膜とをXeF2 を用いたFIBアシストエッチングにより同時に除去して凸欠陥を平坦化する工程と、この除去工程で残った第1および第2のシリコン酸化膜を除去する工程とを具備する位相シフトマスクの欠陥修正方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
G03F 1/08 T
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 502 W
, H01L 21/30 528
