特許

J-GLOBAL ID：200903014903815376

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 藤森 亨 ,  丹 史郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-322909
公開番号（公開出願番号）：特開2001-142214
出願日： 1999年11月12日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：

【要約】【課題】 レジストパターンの密パターンと粗パターンのバランスが改良され、ラインエッジラフネスを改良されたポジ型フォトレジスト組成物を得る。【解決手段】(a)式(I)、(II)及び(III)で表される構造単位{R1及びR2は水素原子又はメチル基、R3は3級アルキル基、R1′、R2′は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基、R3′は鎖状もしくは環状アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す}を有する共重合体A、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c)溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。【化1】

請求項（抜粋）：

(a)下記一般式(I)、(II)及び(III) で表される構造単位を有する共重合体Aと、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c)溶剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】一般式(I)〜(III) 中、R1及びR2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子又はメチル基、R3は置換されてもよい3級アルキル基を表す。一般式(III)中、R1′、R2′は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、又は炭素数1〜4のアルキル基を表し、R3′は、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい環状アルキル基、置換基を有してもよいアリール基、又は置換基を有してもよいアラルキル基を表す。

IPC (9件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/08 ,  C08F212/14 ,  C08F220/12 ,  C08K 5/00 ,  C08L 25/02 ,  C08L 25/18 ,  C08L 33/06 ,  H01L 21/027

FI (9件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/08 ,  C08F212/14 ,  C08F220/12 ,  C08K 5/00 ,  C08L 25/02 ,  C08L 25/18 ,  C08L 33/06 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (66件)：

2H025AA03 ,  2H025AA11 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CC03 ,  4J002BC041 ,  4J002BC071 ,  4J002BC121 ,  4J002EB006 ,  4J002EB027 ,  4J002ED027 ,  4J002EE037 ,  4J002EH037 ,  4J002EH157 ,  4J002EL067 ,  4J002EP017 ,  4J002EQ016 ,  4J002ER026 ,  4J002EU027 ,  4J002EU046 ,  4J002EU056 ,  4J002EU066 ,  4J002EU116 ,  4J002EU126 ,  4J002EU136 ,  4J002EU146 ,  4J002EU186 ,  4J002EU216 ,  4J002EU236 ,  4J002EV207 ,  4J002EV236 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206 ,  4J002FD207 ,  4J002GP03 ,  4J100AB02S ,  4J100AB04S ,  4J100AB07P ,  4J100AB07R ,  4J100AB07S ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02R ,  4J100BA03P ,  4J100BA04R ,  4J100BA05S ,  4J100BA20S ,  4J100BC02R ,  4J100BC03R ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC08R ,  4J100BC09R ,  4J100BC43R ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100CA27 ,  4J100JA38