特許
J-GLOBAL ID：200903014907039001
プラズマアツシング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内原 晋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-182825
公開番号（公開出願番号）：特開平5-029265
出願日： 1991年07月24日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：
【要約】【目的】プラズマ熱によるウェーハ4の温度上昇を抑え、配線の特性を劣化させることなくレジストを除去する。【構成】高周波電源3の出力に応じて直流電源の電流を可変させ、ステージ6に取付けられるペルチェ効果利用した電子冷却装置3の冷却能力を制御する。
請求項（抜粋）：
半導体基板であるウェーハを搭載するステージと、このステージの近傍にあって高周波電圧を印加する電極とを有するプラズマアッシング装置において、前記ステージに取付けられるとともに前記高周波電圧により電流値を可変し、前記ウェーハを冷却するペルチェ効果を利用する電子冷却装置を備えることを特徴とするプラズマアッシング装置。
IPC (3件)：
H01L 21/302
, H01L 21/027
, H05K 7/20
