特許

J-GLOBAL ID：200903014911988794

レーザー励起型X線源

発明者： 小島 勇夫 ,  岩本 隆
出願人/特許権者： 工業技術院長 ,  株式会社島津製作所
代理人 (2件)： 竹本 松司 (外2名) ,  竹本 松司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-105642
公開番号（公開出願番号）：特開2000-298200
出願日： 1999年04月13日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：

【要約】【課題】 レーザー励起型X線源において、プラズマからの微粒子群による汚染あるいは損傷を防止し、ターゲットの消耗を低減する。また、X線の強度変更を容易に行う。【解決手段】 レーザービームの照射によるプラズマによってX線を発生するレーザー励起型X線源において、ターゲット材11を内部に封入する容器2を備え、該容器2はレーザービーム31及びX線41を透過しターゲット材及びプラズマ12の飛散を遮断する透過窓21を有する構成とする。ターゲット材及びプラズマを密封容器内とすることによって、レーザー励起型X線源が備えるポート類やX線光学系が、プラズマから放出される微粒子群によって汚染されたり損傷されることを防止し、ターゲット材の消耗を低減する。ターゲットの厚みを変更することによって、ターゲット材及びプラズマを密封する容器の姿勢を変更する姿勢変更機構6を備えることによって、X線の強度変更を容易に行う。

請求項（抜粋）：

レーザービームの照射によるプラズマによってX線を発生するレーザー励起型X線源において、ターゲット材を内部に封入する容器を備え、前記容器は、レーザービーム及びX線を透過しターゲット材及びプラズマの飛散を遮断する透過窓を有する、レーザー励起型X線源。

IPC (4件)：

G21K 5/08 ,  H01L 21/027 ,  H05G 2/00 ,  H05H 1/24

FI (4件)：

G21K 5/08 X ,  H05H 1/24 ,  H01L 21/30 531 S ,  H05G 1/00 K

Fターム (13件)：

4C092AA06 ,  4C092AA15 ,  4C092AA17 ,  4C092AB19 ,  4C092AC08 ,  4C092BD01 ,  4C092BD07 ,  4C092BD12 ,  4C092CD10 ,  4C092CE02 ,  4C092CE04 ,  4C092EE12 ,  5F046GC03