特許
J-GLOBAL ID：200903014921178480
石英ガラスおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-246841
公開番号（公開出願番号）：特開平11-092153
出願日： 1997年09月11日
公開日（公表日）： 1999年04月06日
要約：
【要約】【課題】 耐紫外線特性および屈折率の均質性の両方の特性に優れている石英ガラスの製造方法を提供する。【解決手段】 塩素(Cl)を実質的に含まない石英ガラスの製造方法において、石英ガラス製バーナから四フッ化ケイ素(SiF4 )ガスと、酸素ガスと、水素ガスとをそれぞれ噴出させる工程と、四フッ化ケイ素(SiF4 )ガスと、酸素ガスおよび水素ガスの反応生成物である水とを反応させて石英ガラス微粒子を発生させる工程と、石英ガラス微粒子をターゲット上に堆積させる工程と、ターゲット上に堆積した石英ガラス微粒子を、溶融・ガラス化して石英ガラスとする工程とを含み、かつ、四フッ化ケイ素(SiF4 )ガスの噴出速度を、9〜20slm/cm2 の範囲内の値とする。
請求項（抜粋）：
塩素(Cl)を実質的に含まない石英ガラスにおいて、該石英ガラス中のフッ素(F)濃度を100〜450ppmの範囲内の値とし、該石英ガラスにおける最大屈折率と最小屈折率との差(Δn)を1.0×10-7〜1.0×10-5の範囲内の値とすることを特徴とする石英ガラス。
IPC (6件)：
C03B 8/04
, C01B 33/107
, C03B 20/00
, C03C 3/06
, G02B 1/00
, G02B 13/00
C03B 8/04
, C01B 33/107 A
, C03B 20/00
, C03C 3/06
, G02B 1/00
, G02B 13/00
