特許

J-GLOBAL ID：200903014924253610

基板処理装置及び基板搬送用トレイの搬送制御方法

発明者： 岸本 真
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-318446
公開番号（公開出願番号）：特開2001-135704
出願日： 1999年11月09日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：

【要約】【課題】 小型で生産性が高く、良好な膜質を得ることが可能な基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板処理装置は、基板に対する成膜手段を備えかつ直列に接続された複数の成膜室と、成膜室に接続されたロードロック室と、これらの室をそれぞれ独立して所定の真空雰囲気に調圧して保持可能な真空手段とを有する基板処理装置であって、ロードロック室に配置され、基板を保持させる基板保持手段と、基板保持手段が保持する基板をトレイに載置して成膜室へ移動させ、基板保持手段に戻すトレイ搬送手段とを備え、トレイ搬送手段は、ロードロック室が大気開放下にあるとき、トレイを真空雰囲気のバッファ室に待機させ、ロードロック室が真空雰囲気になったとき、基板保持手段が保持する基板をトレイに載置して成膜室へ移動させる。

請求項（抜粋）：

基板に対する成膜手段を備えかつ直列に接続された複数の成膜室と、成膜室に接続されたロードロック室と、これらの室をそれぞれ独立して所定の真空雰囲気に調圧して保持可能な真空手段とを有する基板処理装置であって、ロードロック室に配置され、基板を保持させる基板保持手段と、基板保持手段が保持する基板をトレイに載置して成膜室へ移動させ、基板保持手段に戻すトレイ搬送手段とを備え、トレイ搬送手段は、ロードロック室が大気開放下にあるとき、トレイを真空雰囲気の成膜室に待機させ、ロードロック室が真空雰囲気になったとき、基板保持手段が保持する基板をトレイに載置して成膜室へ移動させることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  C23C 14/50 ,  H01L 21/203

FI (3件)：

H01L 21/68 A ,  C23C 14/50 K ,  H01L 21/203 S

Fターム (25件)：

4K029BD01 ,  4K029DA08 ,  4K029KA02 ,  4K029KA09 ,  5F031DA11 ,  5F031FA03 ,  5F031FA07 ,  5F031FA15 ,  5F031FA18 ,  5F031GA24 ,  5F031GA45 ,  5F031GA59 ,  5F031MA03 ,  5F031MA06 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031NA05 ,  5F103AA08 ,  5F103BB36 ,  5F103BB37 ,  5F103BB46 ,  5F103BB47 ,  5F103BB49 ,  5F103RR01 ,  5F103RR05