特許

J-GLOBAL ID：200903014928435250

リッジ型光導波路の製造方法

発明者： 各務 学 ,  長谷川 和男 ,  伊藤 博
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所
代理人 (1件)： 藤谷 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-093420
公開番号（公開出願番号）：特開平9-258051
出願日： 1996年03月22日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：

【要約】【課題】光導波路の伝送損失を減少させること。【解決手段】基板4 上にフルオロアルキルメタクリレートポリマーから成るアンダークラッド層2,ポリメチルメタクリレートから成るコア層1 をそれぞれ20μm,100 μm の膜厚に形成する (図1(a)) 。次に, フォトリソグラフィ法によりコア層1 上に導波路パターンのエッチングマスクを描画した後に, 反応性イオンエッチングにより側壁に重合膜12が付着したリッジ型光導波路11を形成する (図1(b)) 。続いて窒素ガスを風速1m/s以上で重合膜12に吹き付け, その風圧により重合膜12を除去し, 凹凸を伴うコア側壁13を形成する (図1(c)) 。そしてコア材料が可溶なモノクロロベンゼン溶液中にコア側壁13を浸漬させ, コア層1 の表面をわずかに溶解させ, 溶液から導波路11を引き上げた後にモノクロロベンゼン蒸気を含有するガス中でゆっくり乾燥させ, 平滑な側壁14を形成する (図1(d)) 。

請求項（抜粋）：

反応性イオンエッチングなどのプラズマエッチングにより、側壁を有するチャネル部分が基板上に残留形成されたリッジ型光導波路を製造する方法において、前記チャネル部分を前記プラズマエッチングにより形成した後、前記側壁に付着した重合膜にガスを吹き付けることにより、前記重合膜を前記側壁から剥離させる第一の工程と、前記第一の工程の後、前記光導波路の構成材料のうちコア材料を溶解する溶媒に前記コア材料を溶解させて得られる溶液中に、前記リッジ型光導波路の前記側壁を浸漬する第二の工程と、前記第二の工程の後、前記リッジ型光導波路を前記溶液から引き上げた後、前記リッジ型光導波路を徐乾して前記リッジ型光導波路の前記側壁を平滑化する第三の工程とを備えたことを特徴とするリッジ型光導波路の製造方法。

IPC (3件)：

G02B 6/13 ,  C08J 7/00 306 ,  G02B 6/00

FI (3件)：

G02B 6/12 M ,  C08J 7/00 306 ,  G02B 6/00