特許
J-GLOBAL ID:200903014932810936

薄型磁気素子およびその製造方法とトランス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-270232
公開番号(公開出願番号):特開平10-074626
出願日: 1996年10月11日
公開日(公表日): 1998年03月17日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、構成部品が少なく、組立が容易で、全体を成膜装置で製造できて薄型化が可能であり、コイル導体周囲の渦電流発生による損失を少なくできる薄型磁気素子とその製造方法とトランスの提供を目的とする。【解決手段】 本発明は、基体21の少なくとも一方の面に形成されたコイルパターン22と、このコイルパターン22上にコイルパターン22を覆って形成された磁性薄膜23とが具備されてなるものである。また、前記磁性薄膜23が前記コイルパターン22に接して設けられていても良く、前記磁性薄膜23が絶縁膜31を介してコイルパターン22上に形成されていても良い。
請求項(抜粋):
基体の少なくとも一方の面に形成されたコイルパターンと、このコイルパターン上にコイルパターンを覆って形成された磁性薄膜とが具備されてなることを特徴とする薄型磁気素子。
IPC (3件):
H01F 17/00 ,  H01F 10/16 ,  H01F 41/04
FI (3件):
H01F 17/00 D ,  H01F 10/16 ,  H01F 41/04 C

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