特許

J-GLOBAL ID：200903014941305209

多段形状の形成方法

発明者： 木川 計介 ,  福島 信人 ,  山本 泉
出願人/特許権者： シチズン時計株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-218528
公開番号（公開出願番号）：特開平11-061447
出願日： 1997年08月13日
公開日（公表日）： 1999年03月05日
要約：

【要約】【課題】 製造工数を大幅に削減し、工程歩留まりを上げて、安価で高精度な多段形状の形成方法を提供すること。【解決手段】 基板上にレジストを塗布して、所定のマスクを介して露光する一連の工程を繰り返して、レジストを積層した後、一括して現像を行う。基板上にパターニングされたレジストをドライエッチング加工し、第一のキャビティを形成する。その後、レジストをアッシングし、再度ドライエッチング加工し、第二のキャビティを形成する。

請求項（抜粋）：

所定の基板上に第一のレジストを塗布しこれを所定のマスクを介して露光する工程と、その上に第二のレジストを塗布し前述のマスクとは異なるマスクを介して露光する工程と、さらに必要される段差の数だけ同様の工程を繰り返しレジストを積層した後一括して現像し乾燥する工程と、エッチングにより第一の段差を形成する工程と、アッシングにより一層分のレジストを消失させ再度エッチングにより第二の段差を形成する工程と、さらに必要とされる段数の数だけ同様の工程を繰り返すことを有することを特徴とする多段形状の形成方法。

IPC (6件)：

C23F 4/00 ,  C23C 28/00 ,  G11B 5/60 ,  G11B 21/21 101 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065

FI (6件)：

C23F 4/00 A ,  C23C 28/00 E ,  G11B 5/60 Z ,  G11B 21/21 101 L ,  H01L 21/30 572 A ,  H01L 21/302 H