特許
J-GLOBAL ID：200903014957478928
ケイ素含有重合体およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塩澤 寿夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-061080
公開番号（公開出願番号）：特開2000-256444
出願日： 1999年03月09日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：
【要約】【課題】≡Si-CH=CH-で表される構造部分を繰り返して有する珪素含有高分子化合物を高収率で製造する方法を提供すること。【解決手段】Ru-H結合またはRu-Si結合を有するか、反応系中でRu-H結合またはRu-Si結合を形成するルテニウム含有化合物の存在下で、下記一般式:【化1】(上式において、Rはアリール基、ヘテロアリール基またはシクロアルキル基、R1〜R4は水素原子またはアルキル基、aおよびcは0以上の整数、bは0または1である)で表される構造を有する1種または2種以上の単量体を重合させることを特徴とするケイ素含有重合体の製造方法。
請求項（抜粋）：
Ru-H結合またはRu-Si結合を有するか、反応系中でRu-H結合またはRu-Si結合を形成するルテニウム含有化合物の存在下で、下記一般式:【化1】(上式において、Rは非反応性基で置換されていてもよいアリール基、ヘテロアリール基またはシクロアルキル基であり、R1〜R4はそれぞれ独立に水素原子または非反応性基で置換されていてもよいアルキル基であり、aおよびcはそれぞれ独立に0以上の整数であり、bは0または1である)で表される構造を有する1種または2種以上の単量体(ただし、少なくとも1種の単量体はaおよびcの少なくとも一方が1以上の整数である)を重合させることを特徴とするケイ素含有重合体の製造方法。
Fターム (4件)：
4J032CA62
, 4J032CB01
, 4J032CD02
, 4J032CE03
