特許
J-GLOBAL ID：200903014966819576
気相成長装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-242202
公開番号（公開出願番号）：特開平6-097081
出願日： 1992年09月10日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：
【要約】【目的】 本発明は気相成長装置に関し、基板表面により品質および再現性の高い結晶性薄膜を形成させることのできる気相成長装置を提供することを目的とする。【構成】 バブラ101は、外部から供給されるキャリアガスと、内部に貯留している液体原料102とから反応ガスを生成する。バブラ101には圧力検知器107が直付けされており、反応ガスの圧力を検知する。圧力制御装置108は圧力検知器107が検知した圧力にもとづいて圧力制御弁109に指示を行い、これによって反応ガスの圧力は一定に保たれる。
請求項（抜粋）：
キャリアガスの供給量を制御するマスフローコントローラ(106,206)を有するキャリアガス供給管(103,203)と、内部に液体原料(102,202)を貯留しており、前記キャリアガス供給管(103,203)からキャリアガスを供給されて、反応ガスを生成するバブラ(101,201)と、生成された前記反応ガスの圧力を検知する圧力検知器(107,207)と、前記圧力検知器(107,207)によって検知された前記反応ガスの圧力にもとづき、反応炉(401)に対する前記反応ガスの供給量を一定化させる反応ガス流量制御手段(111)を有する反応ガス供給管(110,210)とを具備する気相成長装置において、前記圧力検知器(107,207)を前記バブラ(101,201)に直付けしたことを特徴とする気相成長装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, C23C 16/44
, G01L 19/00
