特許

J-GLOBAL ID：200903014976415368

光造形装置

発明者： 小澤 雅彦 ,  後藤 典雄 ,  遠藤 敏朗 ,  村中 昌幸
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-069569
公開番号（公開出願番号）：特開2000-263650
出願日： 1999年03月16日
公開日（公表日）： 2000年09月26日
要約：

【要約】【課題】光造形におけるモデル作成はより高精度に、かつより高速に作成することが望まれている。XY二軸スキャナを複数設置するマルチスキャン方式により高速化が一般的に考えられているが、複数領域の位置あわせが難しく、精度、外観が悪くなる問題があった。【解決手段】複数のXY二軸スキャナにより造形されたモデルのずれをなくすように、スライス断面の最外周のレーザ走査を一つのXY二軸スキャナにより行う手段により有するずれの生じ易い継ぎ目を少なくすることにより解決する。

請求項（抜粋）：

未硬化液状の光硬化樹脂の液面を等高線描画データに従って露光硬化し、該硬化層の上に未硬化の樹脂層を所定厚さ形成し、該未硬化樹脂層を次の等高線描画データに従って露光硬化させることを繰り返して、逐次積層して形状モデルを造形する光造形方法に係わり、少なくとも2つ以上のXY二軸スキャナを有し、同一液面上に各XY二軸スキャナによる複数の露光硬化を行う光造形方法において、スライス断面形状部分が1つの場合は、そのスライス断面を領域分割し、各分割領域のスライス断面形状部分のレーザ露光走査を各XY二軸スキャナのレーザ光に分担し、且つ、スライス断面形状の外周部の走査は複数あるXY二軸スキャナの内どれか1つのXY二軸スキャナによるレーザ光で行うことを特徴とする光造形装置。

IPC (2件)：

B29C 67/00 ,  B29K105:24

Fターム (7件)：

4F213WA25 ,  4F213WA97 ,  4F213WB01 ,  4F213WL03 ,  4F213WL80 ,  4F213WL92 ,  4F213WL95