特許
J-GLOBAL ID：200903014990910320
イオンビームスパッタ装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡田 和秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-275035
公開番号（公開出願番号）：特開平8-139024
出願日： 1994年11月09日
公開日（公表日）： 1996年05月31日
要約：
【要約】【目的】 不要なスパッタ粒子が被処理基板の表面上に付着して堆積することを阻止しうる構成とされたスパッタ装置を提供する。【構成】 本発明にかかるスパッタ装置は、被処理基板1を保持したうえで中心軸線Oを揺動中心として揺動しうる基板ホルダー2と、被処理基板1と対向しうる位置に配設されたターゲット3と、イオンソース5,6とを具備しているとともに、被処理基板1及び基板ホルダー2を取り囲んだうえで同一の中心軸線Oを回転中心として回転しうる円筒形のシャッタードラム11を備えており、このシャッタードラム11は、基板ホルダー2とは各別に駆動され、かつ、その周壁の被処理基板1と対応しうる一箇所には被処理基板1の外形と略等しい大きさの開口部12が形成されたものであることを特徴としている。
請求項（抜粋）：
被処理基板(1)を保持したうえで中心軸線(O)を揺動中心として揺動しうる基板ホルダー(2)と、被処理基板(1)と対向しうる位置に配設されたターゲット(3)と、イオンソース(5,6)とを具備しているとともに、被処理基板(1)及び基板ホルダー(2)を取り囲んだうえで同一の中心軸線(O)を回転中心として回転しうる円筒形のシャッタードラム(11)を備えており、このシャッタードラム(11)は、基板ホルダー(2)とは各別に駆動され、かつ、その周壁の被処理基板(1)と対応しうる一箇所には被処理基板(1)の外形と略等しい大きさの開口部(12)が形成されたものであることを特徴とするイオンビームスパッタ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/203
, C23C 14/46
, C23C 14/50
