特許
J-GLOBAL ID:200903015011478916
フォトレジストフィルム
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-088038
公開番号(公開出願番号):特開平6-273925
出願日: 1993年03月22日
公開日(公表日): 1994年09月30日
要約:
【要約】【目的】 蛍光体の分散不良を起こさず常時蛍光体の分散安定性に優れたフォトレジスト層を供給すると共に20μ以上の硬化レジスト層を形成し、パターン形成精度にも優れたフォトレジストフィルムを提供すること。【構成】 蛍光体を含有せしめた感光性樹脂組成物をベースフィルムに積層したフォトレジストフィルム。
請求項(抜粋):
蛍光体を含有せしめた感光性樹脂組成物をベースフィルムに積層してなることを特徴とするフォトレジストフィルム。
IPC (7件):
G03F 7/004 501
, G03F 7/004 512
, B32B 7/02 103
, C08F 20/20 MMV
, C09K 11/08
, G03F 7/027 502
, H01J 9/22
引用特許:
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