特許

J-GLOBAL ID：200903015024531638

有機ELディスプレイの製造方法

発明者： 平野 貴之 ,  笹岡 龍哉 ,  関谷 光信 ,  佐野 直樹 ,  中山 徹生
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-286161
公開番号（公開出願番号）：特開2000-113981
出願日： 1998年10月08日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：

【要約】【課題】 側壁からの有機層の浸食を防止し、これにより表示特性を高めることのできる、有機ELディスプレイの製造方法の提供が望まれている。【解決手段】 透光性基板20上に第1の電極21を形成する電極形成工程と、有機膜22aと第2の電極材料膜23と保護膜24とをこの順に成膜積層する積層工程と、保護膜上にレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、レジストパターンをマスクにして有機膜と第2の電極材料膜と保護膜とからなる積層膜をエッチングし、有機層、第2の電極、保護層を形成するパターニング工程とを備え、積層工程とレジストパターン形成工程とパターニング工程とを順次繰り返して有機層を形成する有機ELディスプレイの製造方法である。パターニング工程後これに続く繰り返しの積層工程に先立ち、前回のパターニング工程で得られた有機層の側壁を覆う側壁保護膜を形成する側壁保護膜形成工程を有している。

請求項（抜粋）：

透光性基板上に透明導電材料からなる第1の電極を形成する電極形成工程と、第1の電極を形成した前記透光性基板上に、少なくとも有機発光材料からなる膜を有した有機膜と第2の電極材料膜と保護膜とをこの順に成膜積層する積層工程と、前記保護膜上に所望形状のレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、前記レジストパターンをマスクにして有機膜と第2の電極材料膜と保護膜とからなる積層膜をエッチングし、所望形状の有機層、第2の電極、保護層を形成するパターニング工程とを備え、前記積層工程とレジストパターン形成工程とパターニング工程とを順次繰り返して有機層を形成する有機ELディスプレイの製造方法において、前記パターニング工程後これに続く繰り返しの積層工程に先立ち、前回のパターニング工程で得られた有機層の側壁を少なくとも覆う側壁保護膜を形成する側壁保護膜形成工程を有してなることを特徴とする有機ELディスプレイの製造方法。

IPC (4件)：

H05B 33/10 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22

FI (4件)：

H05B 33/10 ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/22 Z

Fターム (13件)：

3K007AB00 ,  3K007AB01 ,  3K007AB04 ,  3K007BA06 ,  3K007BB00 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA00 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01 ,  3K007FA03