特許
J-GLOBAL ID：200903015024885022
レジストインキ組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-141551
公開番号（公開出願番号）：特開平6-332169
出願日： 1993年05月19日
公開日（公表日）： 1994年12月02日
要約：
【要約】【目的】 水溶性フラックス耐性に優れた高信頼性ソルダーレジスト膜を形成するレジストインキ組成物を提供する。【構成】 (A)1,6-ジグリシジルオキシナフタレンと不飽和一塩基酸とを反応せしめて得られる不飽和化合物、(B)エポキシ化合物と不飽和一塩基酸との反応物と、飽和又は不飽和多塩基酸無水物とを反応せしめて得られる活性光線硬化性樹脂、(C)光重合開始剤及び(D)一分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物からなるレジストインキ組成物。
請求項（抜粋）：
(A)1,6-ジグリシジルオキシナフタレンと不飽和一塩基酸とを反応せしめて得られる不飽和化合物、(B)エポキシ化合物と不飽和一塩基酸との反応物と、飽和又は不飽和多塩基酸無水物とを反応せしめて得られる活性光線硬化性樹脂、(C)光重合開始剤及び(D)一分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物を含有してなり、不飽和化合物(A)と活性光線硬化性樹脂(B)の混合割合が重量比で5〜30:95〜70であり、光重合開始剤(C)を不飽和化合物(A)と活性光線硬化性樹脂(B)の混合物100重量部に対して2〜30重量部、エポキシ化合物(D)を活性光線硬化性樹脂(B)100重量部に対して10〜50重量部含むことを特徴とするレジストインキ組成物。
IPC (11件)：
G03F 7/027 502
, G03F 7/027 512
, C08G 59/20 NHN
, C08G 59/40 NKH
, C09D 11/10 PTE
, G03F 7/004 503
, G03F 7/028
, G03F 7/032 501
, G03F 7/038
, H05K 3/28
, C08F299/02 MRV
