特許

J-GLOBAL ID：200903015025803445

真空蒸着装置

発明者： 徳永 一敏 ,  三好 真一 ,  岸本 純一
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-146685
公開番号（公開出願番号）：特開2002-339059
出願日： 2001年05月16日
公開日（公表日）： 2002年11月27日
要約：

【要約】【課題】高真空保持を容易なものとして効率的な運転を行なうことができ、熱衝撃に強くかつ軽量でメンテナンスが容易であり、しかも再利用すること。【解決手段】真空状態に保持された真空容器1の内部に、原料を貯溜する原料貯溜体2を配設し、電子ビーム4により原料貯溜体2内の原料を加熱して当該原料の蒸気6を発生させ、当該蒸気6を蒸着板7に蒸着させるようにし、蒸着板7に付着しない無効蒸気の漏洩を防止するように、原料貯溜体2の周囲に炉内構造体21を配設した真空蒸着装置であって、上記炉内構造体21を、耐熱性・耐熱衝撃性を有する炭素系基板22に、原料による腐食、基板との固着を防止するようにセラミックスコーティング23を施工して高温処理(焼成)した基板で構成する。

請求項（抜粋）：

真空状態に保持された真空容器の内部に、原料を貯溜する原料貯溜体を配設し、電子ビームにより前記原料貯溜体内の原料を加熱して当該原料の蒸気を発生させ、当該蒸気を蒸着板に蒸着させるようにし、前記蒸着板に付着しない無効蒸気の漏洩を防止するように、前記原料貯溜体の周囲に炉内構造体を配設した真空蒸着装置であって、前記炉内構造体としては、耐熱性・耐熱衝撃性を有する炭素系基板に、前記原料による腐食、基板との固着を防止するようにセラミックスコーティングを施工して高温処理(焼成)した基板で構成したことを特徴とする真空蒸着装置。

IPC (2件)：

C23C 14/30 ,  G21K 5/04

FI (2件)：

C23C 14/30 A ,  G21K 5/04 E

Fターム (3件)：

4K029CA01 ,  4K029DA01 ,  4K029DA10