CVD成膜装置及びCVD成膜方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：柳瀬睦肇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-194386
公開番号（公開出願番号）：特開2003-013229
出願日： 2001年06月27日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：

【要約】【課題】微粒子の表面全体に薄膜を均一に成膜できるCVD成膜装置及びCVD成膜方法を提供する。【解決手段】本発明に係るCVD成膜装置は、微粒子の表面全体に薄膜を成膜するCVD成膜装置であって、微粒子を収容する真空チャンバー11と、この真空チャンバーを回転させるモータ16と、真空チャンバー内に原料ガスを導入する原料ガス発生源22と、真空チャンバーにRF出力を供給する高周波電源25と、を具備し、上記モータを用いて真空チャンバーを回転させることにより、真空チャンバー内の微粒子を動かしながら該微粒子の表面全体に薄膜を成膜するものである。

請求項（抜粋）：

微粒子の表面全体に薄膜を成膜するCVD成膜装置であって、微粒子を収容する真空チャンバーと、この真空チャンバーを回転させる駆動機構と、真空チャンバー内に原料ガスを導入する原料ガス導入機構と、真空チャンバーに電力を供給する電力供給機構と、を具備し、上記駆動機構を用いて真空チャンバーを回転させることにより、真空チャンバー内の微粒子を動かしながら該微粒子の表面全体に薄膜を成膜することを特徴とするCVD成膜装置。

IPC (2件)：

C23C 16/44 , B01J 19/08

FI (2件)：

C23C 16/44 B , B01J 19/08 H

Fターム (19件)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075BA05 , 4G075BC04 , 4G075BD14 , 4G075CA47 , 4G075CA62 , 4G075DA02 , 4G075EC21 , 4G075ED01 , 4K030AA09 , 4K030BA28 , 4K030CA18 , 4K030EA06 , 4K030FA03 , 4K030GA04 , 4K030KA05 , 4K030KA17 , 4K030KA30

引用特許：

審査官引用 (5件)

プラズマCVDによる炭化物コーティング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-274681 出願人：新技術事業団
プラスチック容器の成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-057197 出願人：凸版印刷株式会社
特開平2-153068

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