特許

J-GLOBAL ID：200903015039746185

イオンビーム装置

発明者： 工 藤 政 都
出願人/特許権者： 日本電子株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-031597
公開番号（公開出願番号）：特開2000-231898
出願日： 1999年02月09日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：

【要約】【課題】 エッチング時間の長短には無関係に、エッチングされた厚さを、一定のエッチング速度とエッチング時間から求めることができるイオンビーム装置を提供すること。【解決手段】 イオン加速電圧印加後しばらくの間は真空容器内のガス圧が変動するが、シャッタ・加速電圧制御手段21は、イオン加速電圧印加直後からガス圧が所要の値に安定化するまでのある一定の時間T<SB>W</SB>(T<SB>W</SB><T<SB>e</SB>)だけイオンビームを遮断するように、イオンビーム遮断手段18を制御する。すなわち、シャッタ・加速電圧制御手段21は、時間T<SB>W</SB>の間はシャッタ19が光軸O上に配置されるように、そして、時間T<SB>W</SB>経つとシャッタ19が光軸O上から退避するようにイオンビーム遮断手段18を制御する。

請求項（抜粋）：

次の構成(a)〜(e)を備えたイオン銃と、(a)真空容器(b)該真空容器にガスを導入するガス導入手段(c)前記真空容器内のガス圧力を所定圧力に維持するガス圧力制御手段(d)前記ガスをイオン化する手段(e)生成されたイオンを加速するイオン加速手段該イオン銃の後段に配置されたイオンビーム光学系と、イオンビーム光軸上から退避可能に構成されたイオンビーム遮断手段と、前記イオン加速手段の動作に対応させて前記イオンビーム遮断手段を制御する制御手段を備えたことを特徴とするイオンビーム装置。

IPC (3件)：

H01J 37/305 ,  H01J 37/09 ,  H01L 21/302

FI (3件)：

H01J 37/305 A ,  H01J 37/09 Z ,  H01L 21/302 Z

Fターム (15件)：

5C034AB02 ,  5C034BB03 ,  5C034BB09 ,  5C034CC19 ,  5C034CD02 ,  5C034CD04 ,  5C034CD07 ,  5F004BA17 ,  5F004BB07 ,  5F004BB29 ,  5F004BB32 ,  5F004CA02 ,  5F004CA08 ,  5F004CB05 ,  5F004EA28

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭62-163246
  
• 特開平2-056833
  
• 特開昭62-163246
  
• 特開平2-056833