特許
J-GLOBAL ID：200903015042519475

電気脱イオン装置及び純水製造装置

発明者：
大澤 公伸

大澤 公伸 について

, 
加藤 修

加藤 修 について


出願人/特許権者：
栗田工業株式会社

栗田工業株式会社 について


代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-240054
公開番号（公開出願番号）：特開2001-113281
出願日： 2000年08月08日
公開日（公表日）： 2001年04月24日
要約：
【要約】【課題】 シリカ、ホウ素などの弱電解質の除去率を飛躍的に向上させることができ、超純水製造装置の一次純水システムや回収系に好適な電気脱イオン装置と、この電気脱イオン装置を用いて、比抵抗値18.0MΩ・cm以上の高水質処理水を得ることができる純水製造装置を提供する。【解決手段】 陰極と陽極の間に複数のカチオン交換膜とアニオン交換膜とを配列して、濃縮室と脱塩室とを交互に形成し、脱塩室にイオン交換体を充填してなる電気脱イオン装置において、pH8.5以下の被処理水をアルカリ薬剤を添加することなしに処理したときに、被処理水のpHよりも1.0以上高いpHの処理水を得ることができる電気脱イオン装置3A。被処理水を複数段の電気脱イオン装置3A,3Bに通水するように接続した純水製造装置であって、最前段の電気脱イオン装置3Aとしてこの電気脱イオン装置を用いた純水製造装置。
請求項（抜粋）：
陰極、陽極、該陰極と陽極の間に複数のカチオン交換膜とアニオン交換膜とを配列することにより交互に形成された、濃縮室と脱塩室、及び該脱塩室に充填されたイオン交換体を有する電気脱イオン装置において、pH8.5以下の原水をアルカリ薬剤を添加することなしに処理したときに、該原水のpHよりも1.0以上高いpHの処理水が得られるように脱塩室の厚さ、操作電圧及び/又は電流、或いは通水SVが設定されていることを特徴とする電気脱イオン装置。
IPC (9件)：
C02F 1/469 ,  B01D 61/02 ,  B01D 61/48 ,  B01D 61/58 ,  B01J 41/12 ,  B01J 43/00 ,  B01J 47/12 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/44
FI (9件)：
B01D 61/02 ,  B01D 61/48 ,  B01D 61/58 ,  B01J 41/12 Z ,  B01J 43/00 B ,  B01J 47/12 E ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/44 H ,  C02F 1/46 103
引用特許：
審査官引用 (11件)
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