特許
J-GLOBAL ID：200903015051307944
レーザプラズマ用ターゲット
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-059870
公開番号（公開出願番号）：特開平5-264763
出願日： 1992年03月17日
公開日（公表日）： 1993年10月12日
要約：
【要約】【目的】ターゲット物質の蒸発を低減し、ターゲット物質の光学系やその他の機器への蒸着を抑え、高繰返し運転に対応できるレーザプラズマX線発生装置用のターゲットを実現する。【構成】ターゲット20は、厚さ0.数μmに薄膜化されたモリブデン、金等のターゲット物質1を、ポリマー等によって作られた帯状で柔軟な支持体2に蒸着して成る。このターゲット20は送り側リード21に巻き付けられている。このターゲット20は受け側リール22によって巻き取られ、レーザ照射面24上を移動する。また、常にターゲット20をレーザ照射面24上に持ってくるため、ガイド23を設けている。レーザを高繰返しで運転する場合、常に新しいターゲット物質1がレーザ照射面24上に供給される。
請求項（抜粋）：
支持体と、この支持体に支えられた薄膜状のターゲット物質によって構成されていることを特徴とするレーザプラズマ用ターゲット。
IPC (3件)：
G21B 1/00
, H01S 3/00
, H05H 6/00
