特許

J-GLOBAL ID：200903015061403488

表面浮き彫りを複製し保護する方法

発明者： タイドマン イェスパー
出願人/特許権者： グリュド アンド マーストランド エイ/エス
代理人 (2件)： 清水 初志 ,  橋本 一憲
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-506954
公開番号（公開出願番号）：特表2004-501775
出願日： 2001年06月28日
公開日（公表日）： 2004年01月22日
要約：

たとえば回折光学要素を有するホログラムなどの浮き彫りが金属基板の軟質層の表面に複製され、その後表面浮き彫りが透明な層で覆われる、金属容器の少なくとも一部を製造する方法が提供される。透明な層は、金属基板の軟質層を安定させ、それによって浮き彫りを保護する。金属基板はその後、金属容器へと形成される。

請求項（抜粋）：

金属容器の少なくとも一部を製造する方法であって、以下の段階を含む方法: 実質的に平面であり、2つの実質的に平行な表面を有する金属基板を提供する段階; 物体を基板の一方の表面に押し付けて該表面の少なくとも一部の表面特性を変化させることにより、物体の表面によって保持されている表面浮き彫り(relief)を複製する段階;および 複製された表面浮き彫りを保護するように、複製された表面浮き彫りの少なくとも一部を実質的に透明な層で覆う段階。

IPC (7件)：

B21D31/00 ,  B21D51/26 ,  B65D8/04 ,  B65D8/16 ,  B65D25/20 ,  B65D25/34 ,  G03H1/20

FI (8件)：

B21D31/00 A ,  B21D31/00 B ,  B21D51/26 B ,  B65D8/04 G ,  B65D8/16 ,  B65D25/20 N ,  B65D25/34 B ,  G03H1/20

Fターム (17件)：

2K008AA13 ,  2K008GG05 ,  3E061AA16 ,  3E061AB13 ,  3E061BA01 ,  3E061BA02 ,  3E061BA07 ,  3E061DA02 ,  3E062AA04 ,  3E062AB03 ,  3E062DA01 ,  3E062DA05 ,  3E062JA04 ,  3E062JA08 ,  3E062JB22 ,  3E062JC01 ,  3E062JD08

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特公平4-054238
  
• 特公平4-054238