特許

J-GLOBAL ID：200903015069291786

撮像光学装置及び撮像光学システム

発明者： 杉野 司
出願人/特許権者： 神鋼電機株式会社
代理人 (1件)： 本庄 武男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-110859
公開番号（公開出願番号）：特開平10-300423
出願日： 1997年04月28日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：

【要約】【課題】 撮像装置の視野角全体にわたって,撮像対象とする反射光を選択的に撮像でき,外乱光の影響を最小限に抑えた撮像画像を得ることが可能な撮像光学装置,及び撮像光学システムを提供する。【解決手段】 光源に偏光手段を設置することにより対象物に対して偏光を照射するようにし,上記対象物の反射面で反射された反射光を撮像する撮像手段の入射側に,上記対象物により反射された上記偏光を透過させる偏光フィルタを設置した撮像光学装置を構成する。更に,反射面に金属表面処理を施した上記対象物と,上記撮像光学装置により撮像光学システムを構成する。これにより,上記偏光フィルタにより外乱光の強度のみが弱められて撮像される。従って,画像全体に渡って外乱光の影響を最小限に抑えた鮮明な画像が得られる。

請求項（抜粋）：

対象物に対して光を照射する光源と,上記光源から照射され,上記対象物の反射面で反射された反射光を撮像する撮像手段とを具備してなる撮像光学装置において,上記光源に設置され,該光源からの照射光を偏光する偏光手段と,上記撮像手段の入射側に設置され,上記光源から照射され上記対象物により反射された上記偏光を透過させる偏光フィルタとを具備してなることを特徴とする撮像光学装置。