特許

J-GLOBAL ID：200903015080048338

光源装置

発明者： 三宅 栄一
出願人/特許権者： サンエー技研株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-268094
公開番号（公開出願番号）：特開2000-098619
出願日： 1998年09月22日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】 光源から照射される光の使用率が高く、被露光基板に照射される光の照度を低下させることなく矩形形状の照射領域を形成することのできる露光装置に用いられる光源装置を提供する。【解決手段】 第1レンズ106Bは、光の光軸に対して交差する方向に横切る平面に沿って複数配置される矩形形状レンズ106bの集合体からなる。第2レンズ106Cも第1レンズ106Bと同様に、光の光軸に対して交差する方向に横切る平面に沿って複数配置される矩形形状レンズ106cの集合体からなる。

請求項（抜粋）：

フォトマスクを通して光を被露光基板に照射することにより、前記フォトマスクに描かれたパターンを前記被露光基板上に転写する露光装置に用いられる光源装置であって、光源と、前記光源から照射された光を集光するための集光ミラーと、前記集光ミラーによって集光された光束の位置、または、その前後の位置において、前記被露光基板に照射する光の照度分布の向上を主な目的に設けられる複数のレンズからなる集合体レンズと、を備え、前記集合体レンズの個々の前記レンズは、前記光の光軸方向から見て矩形形状レンズである、光源装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 501 ,  F21V 5/04 ,  G02B 19/00

FI (3件)：

G03F 7/20 501 ,  F21V 5/04 D ,  G02B 19/00

Fターム (7件)：

2H052BA02 ,  2H052BA09 ,  2H052BA12 ,  2H097BB01 ,  2H097CA03 ,  2H097CA06 ,  2H097GB02