特許
J-GLOBAL ID:200903015083028460
モノシクロパラフィン含有量が高く、マルチシクロパラフィン含有量が低い潤滑基礎油を含む完成潤滑剤
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
浅村 皓
, 浅村 肇
, 安藤 克則
, 池田 幸弘
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-547005
公開番号(公開出願番号):特表2007-516337
出願日: 2004年11月17日
公開日(公表日): 2007年06月21日
要約:
a)シンガスにフィッシャー・トロプシュ合成を行って生成物流を与え;b)前記生成物流から、窒素及び硫黄合計量が約30ppmより少なく、酸素が約1重量%より少ない実質的にパラフィン系のワックス供給物を分離し;c)前記供給物を、貴金属水素化成分を含む形状選択性中間気孔孔径分子篩を用いて水素化異性化脱蝋することにより脱蝋し、然も、前記水素化異性化温度が約315°C(600°F)〜約399°C(750°F)であり、それにより異性化油を生成し;そしてd)前記異性化油を水素化仕上げし、それにより特定の希望の性質を有する潤滑基礎油を生成させ;そしてe)前記潤滑基礎油と、少なくとも一種類の潤滑添加剤とを混合する;ことにより完成潤滑剤を製造する方法。
請求項(抜粋):
a)シンガスにフィッシャー・トロプシュ合成を行って生成物流を与える工程;
b)前記生成物流から、窒素及び硫黄合計量が約30ppmより少なく、酸素が約1重量%より少ない実質的にパラフィン系のワックス供給物を分離する工程;
c)前記実質的にパラフィン系のワックス供給物を、貴金属水素化成分を含む形状選択性中間気孔孔径分子篩を用いて水素化異性化脱蝋することにより脱蝋し、然も、前記水素化異性化温度が約315°C(600°F)〜約399°C(750°F)であり、それにより異性化油を生成する工程;
d)前記異性化油を水素化仕上げし、それにより
i.少なくとも一つの芳香族官能基を有する全ての分子の重量%が0.30より小さく;
ii.少なくとも一つのシクロパラフィン官能基を有する全ての分子の重量%が10より大きく;
iii.モノシクロパラフィン含有分子重量%対マルチシクロパラフィン含有分子重量%の比が15より大きい;
潤滑基礎油を生成する工程;
e)前記潤滑基礎油と、少なくとも一種類の潤滑添加剤とを混合する工程;
を含む完成潤滑剤製造方法。
IPC (13件):
C10M 169/04
, C10G 65/08
, C10G 45/64
, C10G 45/46
, C10G 2/00
, C10M 105/04
, C10M 177/00
, C10M 105/36
, C10M 105/38
, C10M 105/74
, C10M 101/02
, C10M 105/06
, C10M 107/02
FI (13件):
C10M169/04
, C10G65/08
, C10G45/64
, C10G45/46
, C10G2/00
, C10M105/04
, C10M177/00
, C10M105/36
, C10M105/38
, C10M105/74
, C10M101/02
, C10M105/06
, C10M107/02
Fターム (18件):
4H029DA10
, 4H029DA11
, 4H029DA14
, 4H104BA02A
, 4H104BA04A
, 4H104BA07A
, 4H104BA08A
, 4H104BB33A
, 4H104BB34A
, 4H104BH03A
, 4H104DA02A
, 4H104EA01Z
, 4H104EA02Z
, 4H104EA21A
, 4H104JA01
, 4H104LA03
, 4H104PA03
, 4H104PA41
引用特許:
審査官引用 (6件)
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高級合成潤滑剤基油
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-568928
出願人:エクソンモービルリサーチアンドエンジニアリングカンパニー
-
基油組成物
公報種別:公表公報
出願番号:特願2002-565028
出願人:シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ
-
自動変速機流体
公報種別:公表公報
出願番号:特願2002-570664
出願人:シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ
-
生分解性高性能炭化水素基油
公報種別:公表公報
出願番号:特願平9-522041
出願人:エクソンリサーチアンドエンジニアリングカンパニー
-
潤滑基油及びガス油の製造方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2002-570657
出願人:シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ
-
ワックス状ラフィネートの製造方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2002-570658
出願人:シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ
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