特許

J-GLOBAL ID：200903015086501093

ホルムアルデヒドの酸化除去方法

発明者： 奥村 光隆 ,  上田 厚 ,  秋田 知樹 ,  坪田 年 ,  春田 正毅
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-240077
公開番号（公開出願番号）：特開2004-074069
出願日： 2002年08月21日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：

【課題】オゾン等の有害物質を用いることなく、低温度で効率良くホルムアルデヒドを酸化することにより除去し得る方法を提供する。【解決手段】貴金属粒子及び金属酸化物を含む触媒を用いて、酸素存在下にホルムアルデヒドを除去する方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(I)粒径10nm以下の貴金属粒子、及び (II)酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウム-酸化ジルコニウム複合酸化物、酸化セリウムと酸化ジルコニウムの少なくとも1種と酸化チタンとの複合酸化物からなる群から選ばれた金属酸化物の少なくとも1種 を含む触媒の存在下、ホルムアルデヒドを酸化することにより除去する方法。

IPC (4件)：

B01D53/86 ,  A61L9/00 ,  B01J23/52 ,  B01J23/66

FI (4件)：

B01D53/36 G ,  A61L9/00 C ,  B01J23/52 A ,  B01J23/66 A

Fターム (57件)：

4C080AA07 ,  4C080BB02 ,  4C080CC02 ,  4C080CC12 ,  4C080HH05 ,  4C080JJ04 ,  4C080KK08 ,  4C080LL03 ,  4C080MM02 ,  4C080MM07 ,  4C080NN01 ,  4C080NN03 ,  4C080NN04 ,  4C080NN06 ,  4D048AA19 ,  4D048AB01 ,  4D048BA03X ,  4D048BA06Y ,  4D048BA07X ,  4D048BA08X ,  4D048BA10Y ,  4D048BA11Y ,  4D048BA19X ,  4D048BA34X ,  4D048BA39Y ,  4D048BA41X ,  4D048BA42X ,  4G069AA03 ,  4G069BA01A ,  4G069BA01B ,  4G069BA02A ,  4G069BA03A ,  4G069BA04A ,  4G069BA05A ,  4G069BA05B ,  4G069BA07A ,  4G069BA13A ,  4G069BA17 ,  4G069BA18 ,  4G069BB02A ,  4G069BB02B ,  4G069BB06A ,  4G069BB06B ,  4G069BC32A ,  4G069BC33A ,  4G069BC33B ,  4G069BC43A ,  4G069BC43B ,  4G069BC50A ,  4G069BC50B ,  4G069BC51A ,  4G069BC51B ,  4G069BC69A ,  4G069CA07 ,  4G069CA11 ,  4G069EA02Y ,  4G069EB18Y

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 常温浄化触媒およびその使用方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-086551   出願人：株式会社豊田中央研究所
• 常温触媒
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-296968   出願人：株式会社豊田中央研究所