特許
J-GLOBAL ID：200903015099984778
光導波路の製造方法および光波長変換素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-018642
公開番号（公開出願番号）：特開平5-216082
出願日： 1992年02月04日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：
【要約】【目的】非線形光学効果を用いた光導波路および光波長変換素子の製造方法に関するもので光導波路の非線形性を基板と同程度まで回復させ光波長変換素子より出射される高調波の高効率変換を行う。【構成】LiTaO3基板1にTa6によるマスクパターンを形成しその後、プロトン交換法によりプロトン交換層5を形成する。このプロトン交換層5をアニール処理し高屈折率層2を形成した後、表面に残留する結晶性の劣化した層を除去することにより非線形性が大きい光導波路2を製造する。
請求項（抜粋）：
非線形光学結晶中にプロトン交換法により光導波路を形成する工程と、前記光導波路を熱処理した後に前記光導波路の表面を除去する工程とを有することを特徴とする光導波路の製造方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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