特許
J-GLOBAL ID:200903015100464082
ウエハー基板、液晶ディスプレイ用透明ガラス等の被検査物の表面上の異物・表面検査方法およびその装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長瀬 成城
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-083860
公開番号(公開出願番号):特開2005-274173
出願日: 2004年03月23日
公開日(公表日): 2005年10月06日
要約:
【課題】従来技術では検査が困難で時間のかかる裏面の荒れたウエハー基板上の汚染粒子・異物や微細領域の表面の凹凸、スクラッチ等の欠陥を、大視野で瞬時に識別し、その位置を特定することを可能にしたウエハー基板の表面上の異物・表面検査方法を提供する。【解決手段】レーザー照射光をウエハー側方からウエハー面に対して平行に照射し、照射光をウエハー面に対して垂直方向に移動させ、ウエハー面上に付着する粒子、ウエハー面上の凹凸、スクラッチ等を全ウエハー面に亘って計測検査する。ウエハー面より広い範囲のシート状光を使用し、ウェハーの外形と位置を瞬時に記録し,ついでウェハー表面に付着した汚染微粒子からの散乱光を記録し、更に散乱光の強度から粒子径を求めることで、ウエハー上の全汚染微粒子の位置とそれぞれの粒径を一括して測定する。 【選択図】 図2
請求項(抜粋):
レーザー照射光をウエハーまたは液晶ディスプレイ用透明ガラス等の被検査物側方から被検査物面に対して平行に照射し、照射光を被検査物面に対して垂直方向に移動させて被検査物の表面形状を記録し、さらに、照射光を被検査物面に対して垂直方向に移動させて被検査物面上に付着する粒子、被検査物面上の凹凸、スクラッチ等からの側方散乱光を捕らえ、前記被検査物表面の輪郭内に表示することにより、全被検査物面に亘って散乱光の強度から粒子径、被検査物の表面上の凹凸、スクラッチを求めることを特徴とする被検査物の表面上の異物・表面検査方法。
IPC (5件):
G01N21/956
, G01B11/08
, G01B11/30
, G01N21/958
, H01L21/66
FI (5件):
G01N21/956 A
, G01B11/08 H
, G01B11/30 A
, G01N21/958
, H01L21/66 J
Fターム (48件):
2F065AA26
, 2F065AA49
, 2F065BB01
, 2F065BB22
, 2F065BB25
, 2F065CC00
, 2F065CC19
, 2F065CC21
, 2F065DD06
, 2F065FF01
, 2F065FF44
, 2F065GG04
, 2F065HH05
, 2F065HH16
, 2F065JJ03
, 2F065JJ09
, 2F065JJ26
, 2F065LL09
, 2F065LL12
, 2F065LL34
, 2F065LL35
, 2F065MM03
, 2F065MM07
, 2F065NN00
, 2F065PP13
, 2F065SS13
, 2F065UU07
, 2G051AA42
, 2G051AA51
, 2G051AA84
, 2G051AB01
, 2G051AB02
, 2G051BA01
, 2G051BA10
, 2G051BA11
, 2G051CA03
, 2G051CA04
, 2G051CB01
, 2G051CB05
, 4M106AA01
, 4M106AA20
, 4M106BA05
, 4M106CA43
, 4M106CA47
, 4M106DB02
, 4M106DB03
, 4M106DB04
, 4M106DB08
引用特許:
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