特許
J-GLOBAL ID：200903015106585760
表面汚染評価装置及び表面汚染評価方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-035073
公開番号（公開出願番号）：特開平8-233746
出願日： 1995年02月23日
公開日（公表日）： 1996年09月13日
要約：
【要約】【目的】半導体基板等の表面が汚染されていないかどうかを光学的な手段により検出する表面汚染評価装置に関し、CやHの結合分子が主体となっている基板表面の微量な汚染物を基板対応で確実に検出し、迅速に良否判定する。【構成】赤外光を出射する光源11と、赤外光が入射される被評価基板29を載置する基板保持具13と、被評価基板29内部に赤外光減衰層を形成する手段55と、被評価基板29で反射してきた赤外光を分光する分光器25とを有する。
請求項（抜粋）：
赤外光を出射する光源と、前記赤外光が入射される被評価基板を載置する基板保持具と、前記被評価基板内部に赤外光減衰層を形成する手段と、前記被評価基板で反射してきた赤外光を分光する分光器とを有する表面汚染評価装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 21/88 E
, H01L 21/66 J
