特許
J-GLOBAL ID：200903015107830939
ディープ紫外線リソグラフィー
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡部 正夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-287158
公開番号（公開出願番号）：特開平7-050253
出願日： 1985年06月12日
公開日（公表日）： 1995年02月21日
要約：
【要約】【目的】 本発明は新しい短波長リソグラフシステムに関する。【構成】 本発明によるリソグラフシステムは、ディープ紫外線の範囲の波長にて動作する狭バンド幅可調節レーザーを含む。
請求項（抜粋）：
固有のバンド幅を有するレーザー放射を与えるパルスレーザー手段12;前記放射路に配置され、前記放射手段によって与えられる該固有のバンド幅をもつ放射に応答して許容できないほど大きい色収差を示すレンズアセンブリ108、110、該レンズアセンブリは本質的に単一の光学物質から形成されているものであり;前記レーザーの出力に応答して前記レンズアセンブリが許容できるほど低い色収差を示すまで前記放射の固有のバンド幅を十分に狭くする調節およびバンド幅狭化手段54;連続波信号を提供するためのレーザー62;該レーザーパルスおよび該レーザー信号を同軸的に伝播するための装置55、64;該同軸的に伝播されるパルスおよび信号を偏向する二次元走査アセンブリ20、22;および該偏向されたレーザー信号に応答して所定の整合からの偏差を検出し、該走査アセンブリに修正信号を加えて該レーザー信号の該所定の整合および該同軸的に伝播されるレーザーパルスの整合を保持する手段24を含むことを特徴とする光リソグラフィー装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 502
, G03F 7/20 505
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 515 B
, H01L 21/30 516
, H01L 21/30 529
