特許
J-GLOBAL ID：200903015154114699
透明導電膜の作製方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-270816
公開番号（公開出願番号）：特開平6-305779
出願日： 1993年10月28日
公開日（公表日）： 1994年11月01日
要約：
【要約】【目的】 表面抵抗が小さく、光学特性に優れかつ耐候性に優れた透明導電膜の作製方法を提供する。【構成】 透明基板上に透明導電インクを塗布し、乾燥, 焼成することにより透明導電膜を形成せしめた後、該透明導電膜上にオーバーコート液を塗布し、乾燥又は乾燥,焼成することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
透明基板上に透明導電インクを塗布し、乾燥・焼成することにより透明導電膜を形成せしめた後、該透明導電膜上にオーバーコート液を塗布し、乾燥又は乾燥・焼成することを特徴とする透明導電膜の作製方法。
IPC (3件)：
C03C 17/34
, C03C 17/42
, C23C 10/30
